通常有两种类型的单向流动洁净室，即水平流动和垂直流动. 在水平流动系统中，气流是从一个壁流到另一壁. 在垂直流系统中，空气流是从天花板到地面. 这需要全面考虑设备以获得出色的控制效果.

对于洁净室中悬浮颗粒或微生物的浓度较低的场合，请使用单向气流. 以前，这种类型的洁净室被称为“层流”洁净室. 单向流和层流的名称均表示气流的状态: 气流沿一个方向（垂直或水平）流动，通常范围为0.3 m / s至0.5 m / s（60 ft / min最高100）英尺/分钟）. 洁净室天花板覆盖的高效过滤器将空气传送到房间. 气流就像一个空气活塞，向下流过房间，带走污染物净化手术室，然后从地面排出. 由于中国沿海地区空气质量优良，通常对初级和中效过滤器每月进行检查和清洁，以检查是否有泄漏或阻塞. 发现后，应及时更换. 每隔六个月检查一次高效过滤器，以确定是否需要更换: 除室内清洁要求外，该指标还应参考高效过滤器的最终阻力值.

与外界的新鲜空气混合后，将其再循环到高效过滤器中. 人和过程产生的悬浮污染可以立即被这种空气清除，湍流通风系统采用混合和稀释的原理. 在没有任何障碍的空房间中，单向流动可以以比上述低得多的风速快速清除污染物. 但是在手术室中，机器和机器周围的人会阻碍气流. 2.请谨慎使用现场组装单元. 如果产品没有检测手段和制造基础，就不能保证性能和质量.

障碍物可以将单向流变成湍流净化手术室，从而在障碍物周围形成气流. 人类活动也会使单向流动产生紊流. 在这些湍流中，由于风速低，空气稀释度小，因此污染浓度较高. 因此，风速必须保持在0.3 m / s到0.5 m / s（60 ft / min到100 ft / min）的范围内，以便可以迅速恢复中断的单向流，并在其周围形成湍流区域. 障碍被完全稀释了污染. 单向流量可以用风速正确表示，因为风速越高，房间越干净. 每小时的换气次数与房间的体积（例如天花板的高度）有关，因此不适合表示单向气流. 单向流室中的空气供应量是湍流室中的空气供应量的十倍（十到一百倍）.

（1）本文结合工程实践，研究了100级防护洁净室的施工方法和施工质量保证措施，并为此类工程项目积累了一整套施工技术和经验.

控制

洁净室的温度和湿度控制

洁净空间的温度和湿度主要根据工艺要求确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑人们的舒适度. 随着空气清洁度要求的提高，存在对温度和湿度的工艺要求变得越来越严格的趋势. 空调房位于四楼，屋顶装有风冷式冷水机.

特定过程的温度要求将在后面列出，但是作为一般原则，随着加工精度变得越来越精确，对温度波动范围的要求越来越小. 鉴于当前工艺空调中常见的冷热消除现象，上述措施可以有效降低冷热消除的能耗.

例如，在用于大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，玻璃和硅晶片作为掩模材料的热膨胀系数之间的差异越来越小. 为了应对逆变器产生的电网污染（高次谐波），2009年9月20日，采取了措施为关键过程设备单独安装电源保护器.

直径为100 um的硅晶片，当温度升高1度时，会引起0.24um线性膨胀，因此它必须具有±0.1度的恒定温度，并且湿度值通常较低，因为人出汗后，产品会产生污染，尤其是在怕钠的半导体车间中，该车间的温度不应超过25度，而过多的湿度会引起更多问题. 对于清洁度等于或大于1000的系统，空调的漏气率不应大于1％；

当相对湿度超过55％时，冷却水管壁上将形成冷凝水. 如果发生在精密设备或电路中，会引起各种事故. 相对湿度为50％时，容易生锈. 另外，当湿度过高时，粘附在硅片表面的灰尘将被空气中的水分子化学吸附在表面上，这很难去除.

相对湿度越高，附着力越难去除，但是当相对湿度小于30％时，由于静电力的作用，颗粒也很容易吸附在表面，并且半导体器件容易发生故障. 硅片生产的最佳湿度范围是35-45％.

空调冷水系统的出水温度由冷水机蒸发器的设定值确定，回水温度由整个冷水机蒸发器接收的热量，进水温度和出口水温差应控制在5摄氏度以内. 将温度差控制在5摄氏度以内的方法是在出口和入口管道上安装可以检测水温的变送器，PID温度调节器和频率转换系统. 这三个部分构成一个循环系统. 冷却水的温度取决于冷却塔. 我们要控制的是冷却塔的工作状态. 控制高温冷冻水的温度可以控制温度差. 在空调系统的管道中，采样和温差调节器与PID控制器结合使用，可控制水泵电机的运行. 在此过程中，几个工作泵受到控制并循环工作，以便每个工作泵都能提高效率. 充分发挥作用，在减少工作泵损坏频率的同时，提高整个系统的工作效率.